چکیده: لایه‎های فرومغناطیسی فلزهایی مانند نیکل، آهن، کبالت و آلیاژهایشان کاربردهای فراوانی در تکنولوژی ساخت حسگرها، هدهای مغناطیسی و سیستم‎های ذخیره اطلاعات دارد. در این پایان‎نامه به مطالعه لایه‎های نازک کبالت انباشت شده بر روی زیرلایه‎های آلومینیوم، سیلیکون و ITO به روش الکتروانباشت پرداخته شده است. نتایج پراش اشعه X نشان دادکه لایه‎ها دارای ساختار بلوری هگزاگونال با راستای ترجیهی (002) هستند. تاثیر دمای الکترولیت بر روی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه‎های نازک کبالت انباشت شده بر روی زیرلایه‎های آلومینیومی و سیلیکونی مورد بررسی قرار گرفت و ملاحظه شد که با افزایش دمای الکترولیت، مغناطش اشباع و میدان وادرندگی برای زیرلایه آلومینیومی افزایش پیدا می‎کند درحالیکه برای زیرلایه‎های سیلیکونی با افزایش دمای الکترولیت، مغناطش اشباع نمونه‎ها کاهش می‎یابد و مقدار وادارندگی افزایش یافته است. سپس تاثیر ضخامت بر روی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه‎های نازک کبالت انباشت شده بر روی زیرلایه‎های آلومینیوم و ITO مورد بررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که با افزایش ضخامت لایه‎ها، مغناطش اشباع و مغناطش باقیمانده برای هر دو زیرلایه روند افزایشی داشته است در حالیکه میدان وادارندگی برای زیرلایه‎های آلومینیومی کاهش می‎یابد و برای زیرلایه‎های ITO تغییر محسوسی نمی‎کند. بررسی تاثیر پتانسیل انباشت بر روی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه‎های نازک کبالت انباشت شده بر روی زیرلایه آلومینیومی انجام گرفت. ملاحظه شد که با افزایش پتانسیل انباشت، سطح نمونه‎ها یکنواخت‎تر شده‎ و یک تقارن هگزاگونال به وضوح در تصاویر SEM دیده می‎شود. علاوه بر این با افزایش پتانسیل انباشت، ضخامت لایه و مغناطش اشباع افزایش و میدان وادارندگی کاهش می‎یابد. تاثیر ضخامت زیرلایه آلومینیوم نیز بر روی خواص ساختاری و مغناطیسی لایه‎ بررسی گردید. نتایج نشان داد که خواص ساختاری نیز به ضخامت زیرلایه وابسته است و با افزایش ضخامت زیرلایه، مقادیر مغناطش اشباع و میدان وادارندگی کمی کاهش می‎یابد.